研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[ダイズの苗の成長に対する電界の影響力] med./bio.

The influence of an electric field on the growth of soy seedlings.

掲載誌: J Electrost 2008; 66 (7-8): 417-420

この研究は、電界がダイズの芽苗の成長に及ぼす影響を調べた。電界ばく露実験は、暗く、一定の気候のチャンバ内で実施された。その結果、3600V / mの直流電界ばく露は、芽苗の長さに有意な変化を生じさせなかった;一方、3600および1800 V / mの交流電界ばく露は、平均の芽苗の長さをそれぞれ約12 %および8 %増加させた;これらの知見は、十分に管理された再現性のある条件での2年間の栽培で得られた数千本の芽苗を分析して得られたので、非常に高い統計学有意性を特徴としている;根底にある生物物理学的メカニズムはまだ不明である、と報告している。

研究目的(著者による)

ダイズの苗の成長に対する電界の影響を調べること。

詳細情報

4群を調べた(各群の苗23本):1) 対照群、2) 静電界ばく露(3600V/m)、3) 50Hz電界ばく露(1800V/m)、4) 50Hz電界ばく露(3600V/m)。

季節的な傾向を考慮するため、年間の異なる時期に実験を4-6回反復した。

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1:
  • DC/static
ばく露時間: continuous for 6 days
ばく露2: 50 Hz
ばく露時間: continuous for 6 days

ばく露1

主たる特性
周波数
  • DC/static
タイプ
  • electric field
ばく露時間 continuous for 6 days
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • two 10 cm x 27 cm copper plates
ばく露装置の詳細 each seed placed in a 1 cm x 1cm x 20 cm cell of a 1 cm x 25 cm x 20 cm multi-cell polycarbonate panel, closed on the bottom with filter paper; panel placed inside an aluminum Faraday cage with a 10 cm x 27 cm copper plate at the top and the bottom of the panel with a distance of 28 cm between them; copper plates connected to a power suppy; two Faraday cages put inside a constant-climate chamber with 25 +/- 0.5° C and a relative humidity of 60 +/- 5 %
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 3,600 V/m - - - -

ばく露2

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 continuous for 6 days
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 1,800 V/m peak-to-peak - - -
電界強度 3,600 V/m peak-to-peak - - -

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露中
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

対照群と比較して、静磁界は苗の長さに統計的に有意な影響力を及ぼさなかった。但し、50Hz電界(1800V/m及び3600V/m)にばく露した苗は、対照群と比較して、4日目から始まる長さの有意な増加を示した。

この結果は、超低周波電界を用いることで、植物の成長に影響力を及ぼす可能性を示唆している。

研究の種別:

研究助成

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