[外傷性脳損傷患者におけるチタンメッシュ式頭蓋形成術後の抑うつおよび不安に対する携帯電話からの電磁界の影響] epidem.

この研究は、外傷性脳損傷（TBI）のためチタンメッシュ式頭蓋形成術を受けた患者（n=220：入院2008-2012年）を対象に、術後の抑うつおよび不安症状と携帯電話からの無線周波電磁界（RF-EMFs）ばく露との関連を調査した。2012年11-12月に、調査対象者の社会人口学的特性、ライフスタイル、TBI関連情報、携帯電話RF-EMFばく露情報、抑うつ自己評価尺度（SDS）、不安度自己評価尺度（SAS）を調査した。頭蓋形成術後のRF-EMFばく露とSASおよびSDSとの関連を多変量線形回帰モデルでそれぞれ分析した。その結果、長い携帯電話使用歴、長い通話時間、一日の通話回数の多さ、かかった電話に必ずすぐ応答すること、総合的ばく露レベルの高さが、抑うつスコアの低さと関連した；長い携帯電話使用歴の人では不安度スコアも低かった；一方、受話器の当て方が両側性の人では、携帯電話を持たない人に比べ、不安度が高かった、と報告している。