[垂直回転円磁界による円形培養シャーレ中の誘導電界] tech./dosim.

＜目的＞垂直面に回転面が存在する回転円磁界中に円形の培養シャーレを置いた時の培養液中の誘導電界の特性を調べること。 ＜方法＞McLeod等により報告されている円形培養シャーレ中の解析式を適用し検討を行う。なお、垂直面に回転面が存在する回転円磁界とは、多くの研究機関で用いられているような（電中研も含む）、水平方向および垂直方向の2方向の磁界発生装置を用いた場合に発生される回転円磁界である。 ＜結果＞水平面に回転面が存在する回転円磁界中の円形培養シャーレ中では、誘導電界ベクトルも円軌跡を示したが（Misakian, 1991）、これに対して、今回検討した、垂直面に回転面が存在する回転円磁界中の場合、培養液中の誘導電界の特性は非常に複雑になり、培養液中のほとんどの位置で、誘導電流ベクトルは円軌跡とはならず、直線軌跡に近くなる。