[単一細胞内の電気穿孔法のモデリング。第１部。電磁界強度と残留電位の影響] tech./dosim.

Modeling electroporation in a single cell. I. Effects Of field strength and rest potential

著者: DeBruin KA, Krassowska W
掲載誌: Biophys J 1999; 77 (3): 1213-1224
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