[一般的なインプラントの局所的な組織温度上昇と安全ガイドラインで定義された基本制限との比較] tech./dosim.

Local tissue temperature increase of a generic implant compared to the basic restrictions defined in safety guidelines

掲載誌: Bioelectromagnetics 2012; 33 (5): 366-374

本研究では、体内植込み式医用装置(インプラント)を装着した人々が、現行の電磁界安全ガイドラインによって本質的に防護されているかどうかを調べるため、一般的なインプラントがある身体組織内に1℃までの局所的な温度上昇を生じる一様な誘導電界振幅を、広範な周波数とインプラントの電線長について調べ、職業ばく露と非管理ばく露の両方に対する現行のばく露ガイドラインの基本制限値と比較した。この結果、基本制限値の1%よりもずっと低い電界強度で、一般的なインプラントの先端の周囲の組織における温度上昇が1℃に達し得ることが示された。一般的なモデルでも同様の加熱が観察されるかどうかを確認するため、一様でない解剖学的モデルの内部での追加的なシミュレーションも実施した。一般的なインプラントの存在による有意な温度上昇が見られたことは、インプラント装着者に対しては基本制限値への適合性の立証では十分でないかも知れないことを示していると結論している。

ばく露