この研究は、経頭蓋直流刺激（tDCS）下の灰白質（GM）、白質（WM）、皮質下領域にわたる誘導電界空間分布に対する導電率の局所的異方性の寄与の大きさを推定した。計算は、頭部の受動的な高解像度有限要素モデルに、不均一で変動する異方性導電率を拡散テンソルデータとして与えて行った。様々な皮質領域および皮質下境域の電界分布を、4通りの2電極配置について評価した。結果として、組織の局所的な不均一性および異方性は、等方性の場合に比べ、誘導電界分布の強度と方向を変化させることが示された；電極配置の違いにより、電界強度の顕著な変動を伴う電界分布の変化が見られた；異方性の影響は、電極配置に大きく依存するが、それ以上に誘導電界強度の決定に影響するのは導電率の方向性であった、などを報告している。
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