この研究は、携帯電話関連の電磁界ばく露が剥離した口腔細胞における小核形成頻度に影響するかどうかを調べるため、18-30歳の健康な携帯電話ユーザー86人の左右の内側の頬から細胞をスミア採取した。被験者は携帯電話使用の特徴等に関する調査も完了した。潜在的な交絡因子、ならびに携帯電話の使用期間および好んで使用する側性について小核形成頻度を検査した。その結果、小核形成頻度と携帯電話の使用期間（日常通話）との関連は認められなかった。携帯電話使用と同側の細胞には、反対側の細胞と比較して、統計的に有意に高い小核形成頻度は認められなかった。遺伝毒性因子への定常的ばく露を報告した被験者には、統計的に有意に高い小核形成頻度が認められた（p < 0.0001）。著者らは、この結果は、観察したばく露レベルの携帯電話電磁界は口腔細胞に小核形成を誘導しないことを示唆している、と結論付けている。
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