[2つの都市のLTEスマートセル内で動作する携帯電話から発せられるRF電磁界ばく露] tech./dosim.

RF-EMF exposure induced by mobile phones operating in LTE small cells in two different urban cities.

掲載誌: Ann Telecommun 2019; 74 (1-2): 35–42

データトラフィックの大幅な増加に伴う、マクロセル(MC)レイヤーと低電力のスモールセル(SC)基地局の高密度化により、電波のカバー範囲及び容量の面でネットワークの能力が改善するが、これは無線周波RF電磁界へのばく露に影響するかも知れない。著者らは2つの都市(フランス及びオランダ)での測定キャンペーンを通じて、基地局ダウンリンク(DL))及びユーザー機器(アップリンク(UL))の両方からの電波放射を考慮して、LTE MC及びSCネットワークによるRF電磁界ばく露を特徴付けた。その結果、インターネットのデータ利用、及びMC接続に関しては、SC接続がDLばく露を増加させ得るが、ULばく露を減少させ(係数にして5倍から17倍)、これは主に携帯電話から発せられる電力が低いことと、スループットが限られるか否かによる、ということが示された。更に、ネットワークが密な都市は、低いULばく露と高いDLばく露で特徴付けられる、と著者らは報告している。

ばく露

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