Modeling and Measurement of Exposure to Realistic Non-Uniform Electric Fields at 50 Hz. tech./dosim.

[Modellierung und Messung der Exposition bei realistischen inhomogenen elektrischen Feldern von 50 Hz].

Veröffentlicht in: Keine Autoren angegeben, 2019 Joint International Symposium on Electromagnetic Compatibility, Sapporo and Asia-Pacific International Symposium on Electromagnetic Compatibility (EMC Sapporo/APEMC), Sapporo, Japan IEEE, 2019: 334-337, ISBN 9781728116396

Exposition