Studientyp: Medizinische/biologische Studie (experimentelle Studie)

Radiofrequency (microwave) radiation exposure of mammalian cells during UV-induced DNA repair synthesis. med./bio.

[Hochfrequenz (Mikrowellen)-Befeldung von Säugetierzellen während UV-induzierter DNA-Reparatur-Synthese].

Veröffentlicht in: Radiat Res 1987; 110 (2): 255-266

Ziel der Studie (lt. Autor)

Es sollte die Wirkung von hochfrequenter kontinuierlicher Welle (CW)- und gepulster Welle (PW)-Befeldung im Mikrowellen-Bereich auf die UV-induzierte DNA-Reparatur in normalen menschlichen diploiden Fibroblasten untersucht werden.
Die erste Frage war, ob hochfrequente Befeldung bei geringen Leistungsflussdichten direkt nach UV-Bestrahlung wenigstens eine der Stufen stört, die im DNA-Reparatur-Prozess vorkommen. Die zweite Frage war, ob hochfrequente Exposition selbst, ohne UV-Vorab-Bestrahlung, in der Lage ist, die DNA-Reparatur zu induzieren und die dritte Frage war, ob hochfrequente gepulste Welle-Befeldung (mittlere Temperatur bei konstant 39°C) die Aufnahme (Inkorporierung) einer radioaktiven Zwischensubstanz in zelluläre DNA durch normale semikonservative Synthese beeinflussen könnte.

Endpunkt

Exposition/Befeldung (teilweise nur auf Englisch)

Exposition Parameter
Exposition 1: 350 MHz
Modulationsart: gepulst, CW
Expositionsdauer: 1, 2 oder 3 h
Exposition 2: 850 MHz
Modulationsart: gepulst, CW
Expositionsdauer: 3 h
Exposition 3: 850 MHz
Modulationsart: gepulst, CW
Expositionsdauer: 3 h
-
Exposition 4: 1,2 GHz
Modulationsart: gepulst, CW
Expositionsdauer: 3 h

Exposition 1

Hauptcharakteristika
Frequenz 350 MHz
Typ
Signalform
  • sinusoidal
Expositionsdauer 1, 2 oder 3 h
Modulation
Modulationsart gepulst, CW
Pulsbreite 10 µs
Tastgrad 0,05 %
Folgefrequenz 5.000 Hz
Zusatzinfo

Pulse/packet 1:20

Expositionsaufbau
Expositionsquelle
Aufbau Plexiglas dishes immersed into rectangular water baths.
Zusatzinfo TEM-cell for exposure and an identical TEM-cell for control were placed inside anechoic chamber serving as 37°C warm room.
Parameter
Messgröße Wert Typ Methode Masse Bemerkungen
SAR 390 µW/g Mittelwert gemessen - in square dishes; +/- 0.15 W/kg at 10 mW/cm²
Leistungsflussdichte 50 W/m² Mittelwert gemessen - 10 mW/cm²; for PW exposure
Leistungsflussdichte 18 µW/cm² nicht spezifiziert gemessen - to 0.71 mW/cm²; in the square dishes.

Exposition 2

Hauptcharakteristika
Frequenz 850 MHz
Typ
Signalform
  • sinusoidal
Charakteristik
Expositionsdauer 3 h
Modulation
Modulationsart gepulst, CW
Pulsbreite 10 µs
Tastgrad 0,05 %
Folgefrequenz 5.000 Hz
Zusatzinfo

Pulse/packet 1:20

Expositionsaufbau
Expositionsquelle
Aufbau The incubation dishes were placed in a Plexiglas water bath.
Zusatzinfo Exposures preformed in anechoic chamber.
Parameter
Messgröße Wert Typ Methode Masse Bemerkungen
SAR 600 µW/g nicht spezifiziert gemessen - to 9.9 W/kg; in the square dishes.
Leistungsflussdichte 100 W/m² Mittelwert gemessen - -
SAR 4,5 mW/g Mittelwert gemessen - +/- 3.0 W/kg; at 10 mW/cm²; in the square dishes.

Exposition 3

Hauptcharakteristika
Frequenz 850 MHz
Typ
Signalform
  • sinusoidal
Charakteristik
Expositionsdauer 3 h
Modulation
Modulationsart gepulst, CW
Pulsbreite 100 µs
Tastgrad 0,5 %
Pakete pro Sekunde 5.000
Zusatzinfo

Pulse/packet 1:20

Expositionsaufbau
Expositionsquelle
Aufbau The incubation dishes were placed in a Plexiglas water bath.
Zusatzinfo Exposures preformed in anechoic chamber.
Parameter

Für diese Exposition sind keine Parameter spezifiziert.

Exposition 4

Hauptcharakteristika
Frequenz 1,2 GHz
Typ
Expositionsdauer 3 h
Zusatzinfo Near Field exposure
Modulation
Modulationsart gepulst, CW
Pulsbreite 3 µs
Tastgrad 0,24 %
Folgefrequenz 80.000 Hz
Zusatzinfo

Pulse/packet 1:4

Expositionsaufbau
Expositionsquelle
Aufbau The incubation dishes were placed in a Plexiglas water bath.
Zusatzinfo Exposures preformed in anechoic chamber.
Parameter
Messgröße Wert Typ Methode Masse Bemerkungen
SAR 2,7 mW/g Mittelwert gemessen - +/- 1.6 W/kg; in the square dishes; at 10 mW/cm².
Leistungsflussdichte 100 W/m² Mittelwert gemessen - -
SAR 700 µW/g nicht spezifiziert gemessen - to 7.3 W/kg; in the square dishes.

Exponiertes System:

Methoden Endpunkt/Messparameter/Methodik

Untersuchtes System:
Untersuchungszeitpunkt:
  • nach der Befeldung

Hauptergebnis der Studie (lt. Autor)

Hochfrequente Befeldung (1 bis 3 h bei 37°C, kontinuierliche Welle oder gepulste Welle) hatte keine Wirkung auf die Rate des Markers der Replikations-Reparatur, der in vorher existierende UV-geschädigte DNA eingebaut wurde. Gepulste Welle-Befeldung hatte bei einer konstanten Temperatur von 39°C bei 350 MHz und 850 MHz während der Reparatur-Periode nach UV-Schädigung ebenfalls keine Wirkung. Der Assay zur Induktion der Reparatur-Synthese allein durch hochfrequente Exposition in nicht UV-befeldeten Zellen war negativ für die Befeldung mit kontinuierlicher Welle (350 MHz, 850 MHz und 1200 MHz) und gepulster Welle bei 37°C und für die hochfrequente 350 MHz und 850 MHz Befeldung bei 39°C. Die Hochfrequenz-Exposition induziert unter diesen experimentellen Bedingungen nicht die DNA-Reparatur. Es konnte in vorläufigen Experimenten keine Wirkung auf den Einbau von [³H]Thymidin in die DNA beobachtet werden, die der semikonservativen Synthese unterlag (bei 39°C und hochfrequenter gepulster Welle-Befeldung, Frequenzen von 350 MHz, 850 MHz und 1200 MHz).

Studienmerkmale:

Studie gefördert durch