研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[2450 MHz電磁波照射後のDNA損傷の測定] med./bio.

Measurement of DNA damage after exposure to 2450 MHz electromagnetic radiation.

掲載誌: Radiat Res 1997; 148 (6): 608-617

この研究は、2450MHz電磁界へのインビボばく露により、ラット脳の細胞においてDNA一本鎖切断(SSB)および二本鎖切断(DSB)が生じることを報告した最近の研究(Lai and Singh、Bioelectromagnetics 16、207-210,1995; Int J. Radiat。Biol。69、513-521、1996)の確認のため、培養した哺乳動物細胞への2450MHz電磁界へのインビトロばく露により、DNA損傷が引き起こされるか否かを調べた。個々の細胞におけるDNA損傷アッセイする最も感受性の高い方法と報告されているアルカリコメットアッセイ(単一細胞ゲル電気泳動)を、インビトロ2450MHzばく露後のDNA損傷を測定するために使用した。指数関数的増殖するU87MGおよびC3H 10T1 / 2細胞に、比較的均一なマイクロ波照射を提供する特別に設計されたラジアルトランスミッションライン(RTL)を用いて、2450MHz連続波(CW)のばく露を与えた。比吸収率SAR)は、0.7および1.9W / kgと計算された。RTLの温度をリアルタイムで測定し、37±0.3℃に維持した。各実験には、RTLでの擬似ばく露が含まれていた。2時間ばく露後の細胞は、インキュベーター内で37℃で4時間インキュベートし。その後、アルカリ性コメットアッセイし、画像分析システムにより「正規化されたコメットモーメント」および「コメット長」を決定した。その結果、 2450MHzのCWばく露後、ばく露群と対照との間に有意差は観察されなかった; 2450MHzばく露は、このアッセイで測定する限り、培養哺乳類細胞にDNA損傷を引き起こすようには見えない、と報告している。

The detailed summary of this article is not available in your language or incomplete. Would you like to see a complete translation of the summary? Then please contact us →

研究目的(著者による)

To determine if exposure of cultured mammalian cells to 2450 MHz radiation causes DNA damage.

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 2,450 MHz
Modulation type: CW
ばく露時間: continuous for 2, 4, and 24 h
  • SAR: 0.75 W/kg mean (± 0.39 W/kg)
  • SAR: 1.93 W/kg mean (± 0.99 W/kg)

ばく露1

主たる特性
周波数 2,450 MHz
タイプ
  • electromagnetic field
特性
  • guided field
ばく露時間 continuous for 2, 4, and 24 h
Modulation
Modulation type CW
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
Distance between exposed object and exposure source 292 mm
チャンバの詳細 The warm room accommodated up to 10 radial transmission lines (RTLs), the culture medium in which was maintained at 37.0 ± 0.3°C. The RTL consisted of a parallel-plate region formed by an aluminium bottom plate and a hinged lightweight metal-faced composite top plate and terminated radially by MW-absorbing layers backed by a lamina of perforated aluminium [Moros et al., 1999].
ばく露装置の詳細 Each RTL could hold 16 T-75 flasks each containing 40 ml of medium (1200 cm² of culture area in total) at a radius of 292 mm from the central conical antenna. The electric field of the waves propagating radially outward was perpendicular to the cell layer. The tangential magnetic field was perpendicular to the EF and the propagation direction.
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information Some cells were exposed for 2 h and incubated at 37°C for 4 h.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
SAR 0.75 W/kg mean 測定値 - ± 0.39 W/kg
SAR 1.93 W/kg mean 測定値 - ± 0.99 W/kg

Reference articles

  • Moros EG et al. (1999): [大量の培養瓶へのマイクロ波照射用広帯域遮蔽ばく露装置としての放射状送電線]
  • Pickard WF et al. (1999): [横断電磁モードばく露装置内の培養フラスコ内での比吸収率分布の簡易モデルおよび計測]
  • Chou CK et al. (1996): [無線周波電磁界ばく露:実験的ドシメトリに関する教育的レビュー]

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

No significant differences were observed between the test groups and the controls after exposure to 2450 MHz CW (continuous wave) microwaves. Thus 2450 MHz exposure does not appear to cause DNA damage in cultured mammalian cells under these conditions.

研究の種別:

研究助成

関連論文