Authors | Year | Exposed system | Endpoints | Frequency range | SAR | Exposure duration | Parameters |
---|---|---|---|---|---|---|---|
Li Q et al. | 2014 | - | - | 200 Hz | - | - | 磁界, 低周波電磁界, 信号/パルス, 非EMF |
Win-Shwe TT et al. | 2015 | - | - | 21 kHz | - | - | 磁界, 中間周波, IH調理器 |
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