研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[培養細胞におけるホスホリパーゼ活性に対する超低周波電磁界の影響] med./bio.

Effect of Extremely Low Frequency Electromagnetic Fields (EMF) on Phospholipase Activity in the Cultured Cells

掲載誌: Korean J Physiol Pharmacol 2010; 14 (6): 427-433

この研究は、培養細胞(RAW264.7細胞およびRBL2H3細胞)の原形質膜での信号経路に対する超低周波電磁界(ELF EMF)の影響を調べた。細胞に、ELF EMF(60 Hz、0.1または1 mT)への4時間または16時間ばく露を与えた。影響は、細胞でのホスホリパーゼA2(PLA2)、同C(PLC)および同D(PLD)の活性測定により評価した。その結果、どちらの細胞においても、アラキドン酸の基礎レベルおよび0.5 μMメリチン誘発による遊離レベルにELF EMFの影響は観察されなかった;無細胞PLA2アッセイにおいて、細胞質型PLA2(cPLA2)および分泌型PLA2(sPLA2)の活性の変化は観察されなかった;どちらの細胞においても、PLCおよびPLDの活性にELF EMFの影響は観察されなかった;以上の知見は、職業ばく露限度値より2.4倍高いELF EMFのばく露を受けたRAW264.7細胞およびRBL2H3細胞において、ホスホリパーゼ関連シグナル経路誘発は生じないことを示唆している、と報告している。

研究目的(著者による)

2つの異なる細胞株でのホスホリパーゼ酵素活性の変化を観察することで、細胞シグナル伝達経路に対する超低周波電磁界(60Hz、0.1または1mT)の影響を調べること。

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 60 Hz
ばく露時間: continuous for 4 or 16 h

ばく露1

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • magnetic field
ばく露時間 continuous for 4 or 16 h
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
ばく露装置の詳細 four square coils; cage with three floors arranged vertically; exposure system shielded with ferrite material
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.1 mT - 測定値 - -
磁束密度 1 mT - 測定値 - -

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

基底の及びメリチンで誘導したアラキドン酸放出(ホスホリパーゼA2酵素活性)は、どちらの細胞株でも電磁界ばく露によって影響されなかった。細胞基質ホスホリパーゼA2及び分泌されたホスホリパーゼ酵素活性に、ばく露による変化はなかった。ホスホリパーゼC及びホスホリパーゼDのどちらの酵素活性にも、2つのばく露細胞株に変化は見られなかった。

このデータは、職業ばく露限度よりも2.4倍高い電磁界ばく露は、RAW 264.7細胞及びRBL 2H3細胞におけるホスホリパーゼに関連したシグナル伝達経路誘導しないことを示している。

研究の種別:

研究助成

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