研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[マウスの血漿グルココルチコイドのレベルのストレスによる増加に対する超低周波電界の抑制作用の特徴付け] med./bio.

Characterization of the suppressive effects of extremely-low-frequency electric fields on a stress-induced increase in the plasma glucocorticoid level in mice.

掲載誌: Bioelectromagnetics 2018; 39 (7): 516-528

固定したマウスの血漿グルココルチコイド(GC)レベルの上昇が50 Hz電界の強度に依存して抑制されることが、先行研究で示唆されていることから、この研究は、3つのシナリオ(50または60 Hz電界ばく露電界ばく露中の各種のレベルの環境中の明るさ、電界からの完全または部分的な遮蔽)で電界の抗ストレス作用を評価した。GCレベル及び血液パラメータを、対照群電界単独ばく露群、固定単独処理群、複合処理群で比較した。その結果、固定によるGC上昇の抑制については、50 Hzと60 Hzの電界で差はなかった。環境中の3つの明るさのレベル(0、200、490ルクス)の影響を調べたところ、電界の作用は環境中の明るさに影響されることがわかった。導電性シートでマウスを覆って電界から遮蔽したところ、遮蔽された面積との負の相関が認められた。従って、環境中の明るさ及び電界ばく露される体表面積が、ストレスによるマウスの血漿GCレベルの上昇に対する電界の作用に影響するかも知れない。ストレスは各種の疾患の開始と進行に重要な役割を担っていることから、これらの知見は健康における電界の効能の理解に大きな意味合いを持つかも知れない、と著者らは結論付けている。

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 50 Hz
ばく露時間: continuously for 60 minutes
groups 2 and 5a) - g)
ばく露2: 60 Hz
ばく露時間: continuously for 60 minutes
groups 3 and 6

ばく露1

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • electric field
ばく露時間 continuously for 60 minutes
Additional information groups 2 and 5a) - g)
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • electrode
チャンバの詳細 cylindrical plastic cage (diameter: 200 mm; height: 100 mm) with slits (length: 100 mm; width: 5 mm) all around at 5-mm intervals to prefent smudges
ばく露装置の詳細 parallel plate electrode system was comprised of two stainless-steel electrodes (1,000 x 600 mm) placed over and under the cage; humidity was maintained between 45% and 55%; the temperature inside the cage was 25°C ± 3°C during EF or sham exposure
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information immobilization stress was induced by immobilizing each mouse separately within a 50 ml centrifuge (polypropylene) tube that was placed on the lower electrode; immobilization was applied during the latter half (30 min) of the 60-min EF test period in respective groups
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 10 kV/m - 測定値 - ± 1%
磁束密度 0.12 nT - 測定値 - ± 4 nT

ばく露2

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • electric field
ばく露時間 continuously for 60 minutes
Additional information groups 3 and 6
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 10 kV/m - 測定値 - ± 1%
磁束密度 0.12 nT - 測定値 - ± 4 nT

Reference articles

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究助成

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