研究のタイプ: 医学／生物学の研究 (experimental study)

[ラット脳エネルギー代謝に対する200と591と2, 450 MHzの放射それぞれの異なる影響] med./bio.

The differential effects of 200, 591, and 2,450 MHz radiation on rat brain energy metabolism

著者: Sanders AP, Joines WT, Allis JW
掲載誌: Bioelectromagnetics 1984; 5 (4): 419-433
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この研究は、脳のエネルギー代謝における3つの重要な化合物に対するRF連続波（200、591、2,450MHz）ばく露の影響を、ばく露中およびばく露後に測定した。 ばく露時間は、200MHzおよび2,450MHzでは、最大5分間、591MHzでは20分間であり、ラット脳内の温度は、全てのばく露において本質的に一定であった。その結果、周波数依存性の変化が、3つの化合物のすべてにおいて見られた；NADH蛍光は、200および591MHzで、約1〜10mW / cm 2の間で量依存的に増加し、それ以上のばく露レベルでは一定であった；2,450 MHzでは何の影響も見られなかった；ATPおよびCPのレベルは、ばく露後の全脳において測定されたが、ATPレベルは、200および591MHzでは低下し、2,450MHzでは低下しなかった；CPレベルは、591MHzでのみ低下した,と、報告している。

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研究目的(acc. to editor)

To measure three key compounds in brain energy metabolism during and after exposure to continuous wave (CW) radiofrequency radiation at three different frequencies and to develop a dose-response relationship for the effects.

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 200 MHz
Modulation type: CW
ばく露時間: 2 min
-
ばく露2: 591 MHz
Modulation type: CW
ばく露時間: 2 min
-
ばく露3: 2.45 GHz
Modulation type: CW
ばく露時間: 2 min
-

ばく露1

主たる特性
周波数 200 MHz
タイプ
  • electromagnetic field
ばく露時間 2 min
Modulation
Modulation type CW
ばく露装置
ばく露の発生源／構造
  • stripline exposure system
Distance between exposed object and exposure source 0.015 m
ばく露装置の詳細 the head of the animals were held in teflon head holder so that the exposed brain was positioned directly below the upper-plate of microstrip system.
Additional information the microstrip consisted of two parallel plates.
パラメータ

No parameters are specified for this exposure.

Additional parameter details

PD 0,5 to 40 mW/cm SAR 0,02 to 1,84 W/kg

ばく露2

主たる特性
周波数 591 MHz
タイプ
  • electromagnetic field
ばく露時間 2 min
Modulation
Modulation type CW
ばく露装置
ばく露の発生源／構造
  • stripline exposure system
Distance between exposed object and exposure source 0.015 m
ばく露装置の詳細 the head of the animals were held in teflon head holder so that the exposed brain was positioned directly below the upper-plate of microstrip system.
パラメータ

No parameters are specified for this exposure.

Additional parameter details

PD between 0,5 and 40 mW/cm² SAR 0,09 and 7,4 W/kg

ばく露3

主たる特性
周波数 2.45 GHz
タイプ
  • electromagnetic field
ばく露時間 2 min
Modulation
Modulation type CW
ばく露装置
ばく露の発生源／構造
  • stripline exposure system
Distance between exposed object and exposure source 0.015 m
ばく露装置の詳細 the head of the animals were held in teflon head holder so that the exposed brain was positioned directly below the upper-plate of microstrip system.
パラメータ

No parameters are specified for this exposure.

Additional parameter details

PD between 0,5 and 40 mW/cm² SAR 0,18 and 14,72 W/kg

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目／測定パラメータ／方法

研究対象とした生物試料:
研究対象とした臓器系:
調査の時期:
  • ばく露中
  • ばく露後

研究の主なアウトカム（著者による）

Frequency-dependent alterations have been found for all three compounds. At 200 and 591 MHz, NADH fluorescence increased in a dose-dependent manner between approximately 1 and 10 mW/cm². Then it became constant at higher exposures. There was no effect at 2450 MHz. The ATP levels were decreased at 200 and 591 MHz but not at 2450 MHz. The creatine phosphate levels decreased only at 591 MHz. Temperature in the rat brain was essentially constant for all irradiations. A general mechanism for inhibition of the mitochondrial electron transport chain and creatine kinase reaction pathway by radiofrequency exposure has been proposed.

研究の種別:

研究助成

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