研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[携帯電話周波数の電磁放射に応答した細胞増殖の障害] med./bio.

Disturbance of cell proliferation in response to mobile phone frequency radiation.

掲載誌: Arh Hig Rada Toksikol 2009; 60 (1): 109-115

この研究は、携帯電話電磁放射(RFR)へのばく露後におけるV79細胞の増殖細胞骨格構造、および有糸分裂指数の変化を調べた。V79細胞は標準的な実験室条件で培養され、935 MHzの連続波RFR(電界強度8.2±0.3 V/ m、SAR値0.12 W/ kg)のばく露を1時間、2時間、および3時間受けた。増殖動態を特定するために、それぞれのばく露後24時間、48時間、72時間、および96時間において細胞をカウントした。微小管タンパク質は、特異的な免疫細胞化学的方法で測定した。細胞塗抹標本を蛍光顕微鏡下で分析した。陰性対照および陽性対照を用いた。有糸分裂指数は、ばく露の24時間後に、分裂中の細胞の数を推定し、それを細胞総数で割ることで決定した。その結果、対照群に比べ、3時間ばく露群において、ばく露後72時間での細胞増殖が低下した(p < 0.05);微小管構造は、3時間ばく露群でばく露直後に明らかに変化した(p < 0.05); 細胞の有糸分裂指数は、 RFRばく露群と陰性対照群で差がなかった、と報告している。

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研究目的(著者による)

To determine the influence of mobile phone exposure on the proliferation, cytoskeleton structure, and mitotic index of V79 cells.

詳細情報

Positive control cells were treated with colchicine (concentration of 0.1 mmol/L).

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 935 MHz
ばく露時間: continuous for 1 h, 2 h and 3 h

ばく露1

主たる特性
周波数 935 MHz
タイプ
  • electromagnetic field
ばく露時間 continuous for 1 h, 2 h and 3 h
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • GTEMセル
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 8.2 V/m - - - -
SAR 0.12 W/kg spatial average 計算値 - -

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

In comparison to the control cells, cell proliferation declined significantly in cells exposed for three hours 72h after irradiation. Microtubule structure (fibre damage) was significantly altered immediately after exposure. The mitotic index in exposed cells did not differ from negative controls.
The results indicate that cell proliferation kinetics may depend on microtubule impairment after exposure to a mobile phone.

研究の種別:

研究助成

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