研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (observational study)

[1 μTを超える超低周波磁界の職業的ばく露を受けた労働者においてナチュラルキラー細胞の活性が低下する] med./bio.

Natural killer cell activity decreases in workers occupationally exposed to extremely low frequency magnetic fields exceeding 1 microT.

掲載誌: Int J Immunopathol Pharmacol 2009; 22 (4): 1059-1066

この研究は、著者らの行った予備調査の結果の検証のために実施された。予備調査では、1 μTを超える超低周波磁界(ELF-MFばく露を受けた労働者群において、末梢血リンパ球PBL)のナチュラルキラー(NK)細胞活性の低下が観察された。本研究では、さまざまな職業に従事している121人の労働者を対象に、個人のELF-MFばく露を2つの勤務シフトについてモニタした。ばく露レベルは、時間加重平均TWA)で計算された。その結果、調査対象者は、低ばく露TWA ≤ 0.2 μT)、中ばく露TWA 0.21 - 0.99 μT)、高ばく露TWA ≥ 1μT)に分類された;高ばく露群では、低ばく露群と比較してNK活性が有意に低下していることが示された;中ばく露群でも、低ばく露群と比べて減少したが、その差は有意ではなかった;多変量解析でも、ばく露とNK活性の関連が確認された; ELFとがん進行との関連性、あるいはELF-MFばく露労働者でのいくつかの神経変性疾患リスク上昇に関する疫学研究の結果などがNK機能の変化によって説明される可能性がある、と報告している。

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研究目的(著者による)

To study the possible effects of occupational extremely low frequency magnetic field exposure on natural killer cell cytotoxic activity in peripheral blood cells of workers engaged in different occupational activities not involving any exposure to chemical/physical factors.
The study was performed to confirm previous results with a larger study group (see Gobba et al. 2009).

詳細情報

Individual extremely low frequency magnetic field exposure of all participants (121 workers; 65 men and 56 women) was measured during two consecutive work-shifts using personal dosimeters and environmental, non-occupational exposure was also monitored. Workers were classified as low exposed (62 subjects, TWA ≤ 0,2 µT), medium exposed (35 subjects; 0.21-0.99 µT) and higher exposed workers (24 subjects; TWA ≥ 1 µT).

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1:
  • unspecified
ばく露時間: low exposure group: 12.9 +/- 7.3 years; medium exposure group: 10.0 +/- 6.6 years; high exposure group: 12.0 +/- 8.8 years
  • 磁束密度: 0.2 µT average over time (maximum value for the low exposure group)
  • 磁束密度: 0.21 µT average over time (minimum value for the medium exposure group)
  • 磁束密度: 0.99 µT average over time (maximum value for the medium exposure group)
  • 磁束密度: 1 µT average over time (minimum value for the higher exposure group)

ばく露1

主たる特性
周波数
  • unspecified
タイプ
  • magnetic field
ばく露時間 low exposure group: 12.9 +/- 7.3 years; medium exposure group: 10.0 +/- 6.6 years; high exposure group: 12.0 +/- 8.8 years
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • occupational exposure + domestic exposure
Additional information exposure measurement: continuous for 8 h/day on 2 days occupational exposure and 16 h/d domestic exposure
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.2 µT average over time 測定値および計算値 - maximum value for the low exposure group
磁束密度 0.21 µT average over time 測定値および計算値 - minimum value for the medium exposure group
磁束密度 0.99 µT average over time 測定値および計算値 - maximum value for the medium exposure group
磁束密度 1 µT average over time 測定値および計算値 - minimum value for the higher exposure group

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
研究対象とした臓器系:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

In higher exposed workers (exceeding 1 µT) natural killer cell activity was significantly reduced compared to low exposure group. In the medium exposure group a decrease was also observed, but the difference was not significant.
In conclusion, the data suggest that occupational exposure to extremely low frequency magnetic fields, at least at TWA levels exceeding 1 µT, may induce a decrease in natural killer cell activity in peripheral blood lymphocytes.

研究の種別:

研究助成

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