研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[電磁過敏症:新奇の神経学的症候群の証拠] med./bio.

Electromagnetic hypersensitivity: evidence for a novel neurological syndrome.

掲載誌: Int J Neurosci 2011; 121 (12): 670-676

研究目的(著者による)

潜在的に電磁過敏な女性に60Hz電界が症候性応答を生じ得るかどうかを調べること。

詳細情報

被験者10人を60Hz電界ばく露した。2つの実験中、インタビュアーが身体反応を質問した。第2の実験で、偽ばく露、連続的な電界パルス電界に差があるかどうかを調べた。第3の実験で、被験者が周波数の異なる電界(60Hz-500kHz)を知覚する能力を、各々のばく露/偽ばく露に対して「はい」または「いいえ」のボタンを押すことで、調べた。

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 60 Hz
ばく露時間: 10 x 100 seconds (applied in pulses)
experiment 1
ばく露2: 60 Hz
ばく露時間: continuous for 100 seconds (5 x)
experiment 2
ばく露3: 60 Hz
ばく露時間: 5 x 100 seconds (applied in pulses)
experiment 2
ばく露4: 60 Hz
ばく露時間: 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
experiment 3
ばく露5: 1 kHz
ばく露時間: 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
experiment 3
ばく露6: 10 kHz
ばく露時間: 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
experiment 3
ばく露7: 100 kHz
ばく露時間: 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
experiment 3
ばく露8: 500 kHz
ばく露時間: 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
experiment 3

ばく露1

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 10 x 100 seconds (applied in pulses)
Additional information experiment 1
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • metal plates
ばく露装置の詳細 electric fields were generated by applying a voltage to parallel 49 cm square metal plates spaced 36 cm apart; subject sat in a comfortable wooden chair with her eyes closed and head between the plates
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露2

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 continuous for 100 seconds (5 x)
Additional information experiment 2
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露3

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 5 x 100 seconds (applied in pulses)
Additional information experiment 2
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露4

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
Additional information experiment 3
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information three sequences of 30-50 trials
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露5

主たる特性
周波数 1 kHz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
Additional information experiment 3
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information two sequences of 30-50 trials
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露6

主たる特性
周波数 10 kHz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
Additional information experiment 3
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information one sequence of 30-50 trials
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露7

主たる特性
周波数 100 kHz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
Additional information experiment 3
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information one sequence of 30-50 trials
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露8

主たる特性
周波数 500 kHz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 2 seconds on (pulse application), 10 seconds off (30-50 x)
Additional information experiment 3
Additional information electric field pulses were applied for 100 s intervals (duty cycle of 50%, repetition rate of 10 Hz), which resulted in alternating field-on and field-off pulses of 100 ms
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information one sequence of 30-50 trials
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 300 V/m mean 計算値 - around the head
電界強度 1,000 V/m peak 計算値 - around the head
電界強度 50 V/m maximum 計算値 - around the body

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露前
  • ばく露中
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

電界の開始後、被験者は側頭部の痛み頭痛筋肉けいれん心拍のスキップ等の身体症状を生じた。これは偽ばく露条件とは有意に異なっていた。第2の実験では、被験者は、偽ばく露時と比較してパルス電界ばく露時に、より強い症状を有意に多く報告したが、連続電界ばく露時には偽ばく露との有意差はなかった。但し、第3の実験では、電界を意識的に知覚することはできないことが示された。

著者らは、調査した被験者における神経学的症候群「電磁過敏症」を証明した、と結論付けている。

研究の種別:

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