研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[骨折治療の改善のために臨床的に用いられている電磁界は、イン・ビトロでのリンパ球の増殖にもインパクトを及ぼす] med./bio.

Electromagnetic fields used clinically to improve bone healing also impact lymphocyte proliferation in vitro.

掲載誌: Biomed Sci Instrum 2001; 37: 215-220

この研究は、インビトロにおいて、正常なT細胞の電磁界EMF)に対する応答を調べた。ヒトおよびラットの末梢血からリンパ球を単離し、それらを栄養培地中で培養中に電磁界ばく露を行なった。ばく露に用いたEMFは、1.8 mTの複雑なパルスEMF(Electrobiology、Inc.)、0.1 mTの60 Hz電力周波EMFまたは0.2mTの100 Hz正弦波EMFのいずれかである。対照リンパ球は、EMFばく露無しで同様に培養した。その後、それぞれのリンパ球をT細胞分裂促進剤で処理し、さらに72時間培養した後に増殖能について評価した。その結果、T細胞増殖は、1.8 mTの複雑なパルスEMFへのインビトロばく露によって調節されることが示された、と報告している。ここに登場する1.8 mTの複雑なパルスEMFは、医療応用機器(Electrobiology、Inc.)で使用されているEMFである。著者は、特定の周波数および強度のEMFにより培養中の形質転換白血病T細胞アポトーシス誘導するEMF機器を開発中と述べている。

研究目的(著者による)

本研究は、正弦波またはパルス電磁界ばく露に対するヒト及びラットのT細胞の応答を調べるために実施した。

詳細情報

健康なヒトボランティア及びラット血液から、末梢の、主に成熟したT細胞を採取した。更に、ラットのT細胞脾臓からも採取し、未成熟のリンパ球増殖能力を調べた。ばく露群は抗CD3(T細胞受容体活性)またはコンカナバリンAの有無で実施した。

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 60 Hz
ばく露時間: 20 min
cell cultures
ばく露2: 60 Hz
Modulation type: pulsed
ばく露時間: 4 h/day for 21 days
rats
ばく露3:
  • unspecified
ばく露時間: not given in the article
cell cultures
ばく露4: 100 Hz
ばく露時間: not given in the article
cell cultures

ばく露1

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • magnetic field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 20 min
Additional information cell cultures
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
ばく露装置の詳細 double wound, 38 cm square Merrit coils, cell cultures placed in the center of the coil system
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.1 mT effective value 測定値 - -

ばく露2

主たる特性
周波数 60 Hz
タイプ
  • magnetic field
波形
  • pulsed
ばく露時間 4 h/day for 21 days
Additional information rats
Modulation
Modulation type pulsed
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • commercial wound-healing PEMF using a coil system and signal generator
ばく露装置の詳細 rats placed in the center of the coils system
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.2 mT effective value 測定値 - -

ばく露3

主たる特性
周波数
  • unspecified
タイプ
  • magnetic field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 not given in the article
Additional information cell cultures
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
ばく露装置の詳細 culture cells placed in the center of the coil system
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 1.8 mT - 測定値 - -

ばく露4

主たる特性
周波数 100 Hz
タイプ
  • magnetic field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 not given in the article
Additional information cell cultures
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
ばく露装置の詳細 culture cells placed in the center of the coil system
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.2 mT effective value 測定値 - -

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
研究対象とした臓器系:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

ヒト及びラットの末梢血T細胞の正弦波またはパルス電磁界へのばく露は、対照群と比較して、抗CD3またはコンカナバリンAの有無で、細胞増殖の増加を示した。
パルス電磁界ばく露されたラットでの イン・ビボでの実験では、脾臓のT細胞の増殖の増加(抗CD3活性化)及び末梢T細胞の増殖抑制が認められた。

研究の種別:

研究助成

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