研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[リョクトウ(Vigna radiata)の苗の成長に対する超低周波電界の影響力] med./bio.

Influence of extremely low-frequency electric fields on the growth of Vigna radiata seedlings.

掲載誌: Bioelectromagnetics 2011; 32 (7): 589-592

この研究は、超低周波(ELF)の電界がリョクトウ(Vignaradiata)の芽苗の成長に与える影響をさまざまな電界強度で調べた。50 Hz交流電界電界強度は125 V/m から2525 V/m まで8段階のレベルで実験し、いずれもばく露時間は連続6日間であった。数千本の芽苗を用いて行われた電界ばく露実験は、暗い、一定の気候のチャンバ内で実施された。その結果、低い電界強度において成長は抑制され、高い電界強度において成長は増強されることが示された;最も大きな抑制は約450V / mで生じた、と報告している。

研究目的(著者による)

緑豆の苗の初期成長に対する、異なる電界強度の50Hz正弦波電界の影響を調べること。

詳細情報

数千本の苗を調べた。いずれの実験でも、苗46本をばく露、46本を偽ばく露した。各実験を4-8回反復した

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 50 Hz
ばく露時間: continuous for 6 days

General information

for further information on the setup see also: Wang CS, Kuo SZ, Kuo-Huang LL, Wu JSB. 2001. Effect of tissue infrastructure on electric conductance of vegetable stems. J Food Sci 66:284-288.

ばく露1

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • electric field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 continuous for 6 days
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • copper plates
ばく露装置の詳細 23 seeds placed individually in 1 cm x 1 cm x 20 cm single cells of a 0.05 cm thick polycarbonate panel, closed at the bottom with filter paper; two 10 cm x 27 cm x 0.1 cm copper plates placed 28 cm apart on top and bottom of the panel; experimental setup placed inside a Faraday cage that was electrically connected to ground
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電力 40 µW minimum - - absorbed power
電力 120 µW maximum - - absorbed power
磁束密度 0.004 nT - 計算値 - between the plates
参照 - - 計算値 - I = 1 µA (max.) measurted between the plates
電界強度 125 V/m minimum 測定値 - -
電界強度 268 V/m - 測定値 - -
電界強度 446 V/m - 測定値 - -
電界強度 536 V/m - 測定値 - -
電界強度 714 V/m - 測定値 - -
電界強度 893 V/m - 測定値 - -
電界強度 1,263 V/m - 測定値 - -
電界強度 2,525 V/m maximum 測定値 - -

Reference articles

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露中

研究の主なアウトカム(著者による)

このデータは、超低周波電界ばく露は低い電界強度では抑制作用を生じ、高い電界強度では増強作用を生じることを示した。最大の負の影響(成長の抑制)は約450V/mで生じたが、これは現行の安全規制で発効しているばく露限度値よりも大幅に低い。

研究の種別:

研究助成

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