Studientyp: Medizinische/biologische Studie (experimentelle Studie)

Influence of extremely low-frequency electric fields on the growth of Vigna radiata seedlings. med./bio.

[Einfluss von extrem niederfrequenten elektrischen Feldern auf das Wachstum von Vigna radiata-Keimlingen].

Veröffentlicht in: Bioelectromagnetics 2011; 32 (7): 589-592

Ziel der Studie (lt. Autor)

Es sollten die Wirkungen eines sinusförmigen elektrischen 50 Hz-Feldes mit verschiedenen elektrischen Feldstärken auf das frühe Wachstum von Mungbohnen-Keimpflanzen untersucht werden.

Hintergrund/weitere Details

Es wurden mehrere Tausend Keimpflanzen untersucht. In jedem Experiment wurden 46 Keimpflanzen exponiert und 46 schein-exponiert. Jedes Experiment wurde vier- bis achtmal wiederholt.

Endpunkt

Exposition/Befeldung (teilweise nur auf Englisch)

Exposition Parameter
Exposition 1: 50 Hz
Expositionsdauer: kontinuierlich für 6 Tage

Allgemeine Informationen

for further information on the setup see also: Wang CS, Kuo SZ, Kuo-Huang LL, Wu JSB. 2001. Effect of tissue infrastructure on electric conductance of vegetable stems. J Food Sci 66:284-288.

Exposition 1

Hauptcharakteristika
Frequenz 50 Hz
Typ
Signalform
  • sinusoidal
Expositionsdauer kontinuierlich für 6 Tage
Expositionsaufbau
Expositionsquelle
  • copper plates
Aufbau 23 seeds placed individually in 1 cm x 1 cm x 20 cm single cells of a 0.05 cm thick polycarbonate panel, closed at the bottom with filter paper; two 10 cm x 27 cm x 0.1 cm copper plates placed 28 cm apart on top and bottom of the panel; experimental setup placed inside a Faraday cage that was electrically connected to ground
Schein-Exposition Eine Schein-Exposition wurde durchgeführt.
Parameter
Messgröße Wert Typ Methode Masse Bemerkungen
Leistung 40 µW Minimum - - absorbierte Leistung
Leistung 120 µW Maximum - - absorbierte Leistung
magnetische Flussdichte 0,004 nT - berechnet - zwischen den Platten
s. Bemerkungen - - berechnet - I = 1 µA (max.) gemessen zwischen den Platten
elektrische Feldstärke 125 V/m Minimum gemessen - -
elektrische Feldstärke 268 V/m - gemessen - -
elektrische Feldstärke 446 V/m - gemessen - -
elektrische Feldstärke 536 V/m - gemessen - -
elektrische Feldstärke 714 V/m - gemessen - -
elektrische Feldstärke 893 V/m - gemessen - -
elektrische Feldstärke 1.263 V/m - gemessen - -
elektrische Feldstärke 2.525 V/m Maximum gemessen - -

Referenzartikel

Exponiertes System:

Methoden Endpunkt/Messparameter/Methodik

Untersuchtes System:
Untersuchungszeitpunkt:
  • während der Befeldung

Hauptergebnis der Studie (lt. Autor)

Die Ergebnisse zeigten, dass die extrem niederfrequente elektrische Feld-Exposition eine hemmende Wirkung bei einer schwachen elektrischen Feldstärke und eine verstärkende Wirkung bei einer höheren elektrischen Feldstärke aufwies. Die maximale negative Wirkung (Wachstumshemmung) trat bei rund 450 V/m auf, was viel geringer ist als die Expositions-Grenzwerte, die gegenwärtig in den Sicherheitsrichtlinien in Kraft sind.

Studienmerkmale:

Studie gefördert durch

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