研究のタイプ: 疫学研究 (observational study)

[超低周波電磁界への職業ばく露と神経膠腫のリスクについての症例対照研究] epidem.

Case-control study on occupational exposure to extremely low-frequency electromagnetic fields and glioma risk.

掲載誌: Am J Ind Med 2017; 60 (5): 494-503

この研究は、超低周波(ELF)電磁界への職業ばく露神経膠腫リスクとの関連を調べた。生涯の職業を、1997-2003年および2007-2009年の症例対照研究で評価した。ELF電磁界の職業‐ばく露マトリクスを用いて、職業とELFばく露を関連付けた。累積ばく露(μT-年)、平均ばく露(μT)、最大ばく露された職業(μT)を計算した。その結果、累積ばく露は、それぞれ2.75および6.59μT-年を超える最大ばく露カテゴリーにおいて、1-14年間の時間窓でのグレードIVの星状細胞腫(多形神経膠芽腫)に対するオッズ比OR)=1.9、95%信頼区間(CI)=1.4-2.6(p値の線形傾向<0.001)、15年超の時間窓でOR=0.9、95%CI=0.6-1.3(p値の線形傾向=0.44)を生じた。著者らは、ELF電磁界への職業ばく露について、グレードIVの星状細胞腫の後期(プロモーション/プログレッション)におけるリスク上昇が認められた、と結論付けている。

影響評価項目/リスク推定のタイプ

リスク推定のタイプ: (オッズ比(OR))

ばく露

ばく露評価

ばく露集団

グループ 説明
参照集団 1 cumulative exposure: < 2.33 µT-years
集団 2 cumulative exposure: 2.33 - < 3.79 µT-years
集団 3 cumulative exposure: 3.79 - < 5.55 µT-years
集団 4 cumulative exposure: 5.55 - < 8.52 µT-years
集団 5 cumulative exposure: ≥ 8.52 µT-years
参照集団 6 average exposure: < 0.11 μT
集団 7 average exposure: 0.11 - < 0.13 μT
集団 8 average exposure: 0.13 - < 0.18 μT
集団 9 average exposure: 0.18 - < 0.27 μT
集団 10 average exposure: ≥ 0.27 μT
参照集団 11 maximum exposed job: < 0.13 μT
集団 12 maximum exposed job: 0.13 - < 0.16 μT
集団 13 maximum exposed job: 0.16 - < 0.24 μT
集団 14 maximum exposed job: 0.24 - < 0.60 μT
集団 15 maximum exposed job: ≥ 0.60 μT

調査対象集団

症例集団

対照集団

調査規模

症例 対照
参加者 1,346 3,485
参加率 86 % 86 %
統計学的分析方法: (調整: )

研究助成

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