研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[50 Hz超低周波磁界へのばく露はγ-H2AX技術により細胞にDNA損傷を生じない] med./bio.

Exposure to 50 Hz Extremely-Low-Frequency Magnetic Fields Induces No DNA Damage in Cells by Gamma H2AX Technology.

掲載誌: Biomed Res Int 2021; 2021: 8510315

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 50 Hz
ばく露時間: 15 minutes, 1 hour and 24 hours
ばく露2: 50 Hz
ばく露時間: 15 minutes, 1 hour and 24 hours
ばく露3: 50 Hz
ばく露時間: 15 minutes, 1 hour and 24 hours

ばく露1

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • magnetic field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 15 minutes, 1 hour and 24 hours
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
チャンバの詳細 35-mm diameter Petri dishes in exposure chambers at 37 °C and 5% CO2
ばく露装置の詳細 sXc-ELF exposure system had an incubator consisting of two identical chambers that contained a series of Helmholtz coils; one chamber was used for exposure, the other was for the sham exposure using an opposite phase connection; an air cooling system kept the temperature differences between the two chambers at less than 0.1 °C
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.4 mT - - - -

ばく露2

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • magnetic field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 15 minutes, 1 hour and 24 hours
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 1 mT - - - -

ばく露3

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • magnetic field
波形
  • sinusoidal
ばく露時間 15 minutes, 1 hour and 24 hours
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 2 mT - - - -

Reference articles

  • Zhu K et al. (2016): [インビトロで超低周波磁界はヒト水晶体上皮細胞にDNA損傷を誘発せず]

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究助成

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