研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[インビトロで超低周波磁界はヒト水晶体上皮細胞にDNA損傷を誘発せず] med./bio.

Extremely low frequency magnetic fields do not induce DNA damage in human lens epithelial cells in vitro.

掲載誌: Anat Rec (Hoboken) 2016; 299 (5): 688-697

この研究は、比較的低レベルの超低周波磁界へのばく露(50 Hz ELF MF、0.4 mT、ばく露時間2、6、12、24、48時間)が、培養したヒトの水晶体上皮細胞(LECs)にDNA損傷誘発するか否かを調べた。ばく露群および擬似ばく露群でのDNA損傷を、γH2AX fosi形成の免疫蛍光アッセイ、ウェスタンブロット法、フローサイトメトリ、アルカリコメットアッセイで測定した。その結果、全てのばく露時間の終了後において、ばく露群でのγH2AX fosi形成の有意な上昇は見られなかった;γH2AX発現レベルにも、ばく露群と擬似ばく露群で有意差がなかった;ばく露群では、アルカリコメットアッセイによる顕著な染色体DN断片化が見られなかった、と報告している。

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研究目的(著者による)

The genotoxic effects of exposure of human lens epithelial cells to a 50 Hz magnetic field should be investigated.

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 50 Hz
ばく露時間: continuous for 2 h, 6 h, 12 h, 24 h or 48 hours

ばく露1

主たる特性
周波数 50 Hz
タイプ
  • magnetic field
ばく露時間 continuous for 2 h, 6 h, 12 h, 24 h or 48 hours
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
チャンバの詳細 two chambers with two identical coil systems placed inside a cell culture incubator
ばく露装置の詳細 temperature was constantly monitored and controlled and differences between two chambers were <0.1°C; the external computer controlling system enabled application of blind method
Sham exposure A sham exposure was conducted.
Additional information one coil in one chamber was connected in-phase to generate the magnetic field for exposure, while there was an opposite phase connection in another chamber for sham exposure
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
磁束密度 0.4 mT - - - -

Reference articles

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

No significant differences in DNA single-strand breaks or double-strand breaks were detected in exposed cells compared to cells of the control group regardless of the exposure duration.
The authors conclude that there were no genotoxic effects of exposure of human lens epithelial cells to a 50 Hz magnetic field.

研究の種別:

研究助成

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