研究のタイプ: 医学/生物学の研究 (experimental study)

[培養ヒトケラチノサイトは反射箱内での短時間、低振幅の高周波(900 MHz)電磁界へのばく露に応答しない] med./bio.

Human keratinocytes in culture exhibit no response when exposed to short duration, low amplitude, high frequency (900 MHz) electromagnetic fields in a reverberation chamber.

掲載誌: Bioelectromagnetics 2011; 32 (4): 302-311

【目的】ヒトの正常表皮ケラチノサイトを短時間、高周波、低強度の電磁界ばく露させ、その影響を調べること。このような電磁界携帯電話技術が用いているものに類似している。【方法】モード攪拌反射箱内に生成される電磁環境の特性の制御に特に注意を払った(電磁界の統計的均一性と等方性およびSAR分布)。表皮細胞に対する2つの非熱的ばく露条件(電界強度8 V/mでの10分間ばく露電界強度41 V/mでの30分間ばく露)を試験した。このばく露条件でのSARは2.6から73 mW/kgの範囲にあった(連続波で搬送周波数900MHz)。これらの条件のばく露を受けた細胞からRNAを収集し、ヒト遺伝子47000個以上について大規模マイクロアレイスクリーニングを行った。【結果】これらの条件下で、ケラチノサイトへの電磁界ばく露はほとんど影響しなかった。20個の遺伝子のみに有意な変化が見られた。しかし、それらの遺伝子発現率は非常に小さく(ほぼ1.5倍の変化)、また2つのばく露条件の両方で変化が見られた遺伝子はなかった。またPCRによるアッセイでも、有意な発現の変化は見られなかった(ばく露試料の全体平均:1.20±0.18)。【結論】今回のデータからは、培養ケラチノサイトに対する電磁界ばく露有意な影響は示されなかった。

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研究目的(著者による)

Normal human epidermal keratinocytes were subjected to two non-thermal exposure conditions characterized by different amplitudes and durations to study possible changes in gene expression.

詳細情報

Eight microarrays (four exposed and four sham exposed) were screened per electromagnetic field condition.

影響評価項目

ばく露

ばく露 パラメータ
ばく露1: 900 MHz
Modulation type: CW
ばく露時間: continuous for 10 min
ばく露2: 900 MHz
Modulation type: CW
ばく露時間: continuous for 30 min

ばく露1

主たる特性
周波数 900 MHz
タイプ
  • electromagnetic field
ばく露時間 continuous for 10 min
Modulation
Modulation type CW
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • antenna
ばく露装置の詳細 culture dishes individually enclosed in plastic boxes; eight boxes placed inside a temperature-controlled incubator made of 8 mm thick glas, internally insulated with 20 mm thick high-density polystyrene; incubator positioned in the working zone of a 8.4 m x 6.7 m x 3.5 m mode stirred reverberation chamber (MSRC) consisting of a metal-enclosed room; antenna pointed at a room's corner
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 8 V/m - 測定値 - -
SAR 2.6 mW/kg - 計算値 - -

ばく露2

主たる特性
周波数 900 MHz
タイプ
  • electromagnetic field
ばく露時間 continuous for 30 min
Modulation
Modulation type CW
ばく露装置
ばく露の発生源/構造
  • E1と同じ装置
Sham exposure A sham exposure was conducted.
パラメータ
測定量 種別 Method Mass 備考
電界強度 41 V/m - 測定値 - -
SAR 73 mW/kg - 計算値 - -

Reference articles

ばく露を受けた生物:

方法 影響評価項目/測定パラメータ/方法

研究対象とした生物試料:
調査の時期:
  • ばく露後

研究の主なアウトカム(著者による)

Under these conditions, exposure of keratinocytes to the electromagnetic field had only a small effect: only approx. 20 genes (out of 47000) displayed a significant alteration. Four genes were up-regulated and 15 down-regulated, but none were found under both exposure conditions. In addition, ratios of expression level were calculated and the ratios were small, ranging from 0.5 (down-regulation) to 1.6 (up-regulation). Furthermore, those assayed using RT-PCR (n=15 genes) did not display a significant expression modulation (i.e. no confirmation of the microarray data).
In conclusion, the data showed that cultured keratinocytes are not significantly affected by electromagnetic field exposure.

研究の種別:

研究助成

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