研究のタイプ: 疫学研究 (observational study)

[脳腫瘍のリスク因子としての放射線医学部門の仕事、医療用X線検査、および携帯電話使用に関する症例対照研究] epidem.

Case-control study on radiology work, medical x-ray investigations, and use of cellular telephones as risk factors for brain tumors.

掲載誌: MedGenMed 2000; 2 (2): E2

この研究は、質問票調査によるばく露評価を用いた症例対照研究により、脳腫瘍とそのリスク補因子電離放射線ばく露および携帯電話使用)の関連を調べた。ウプサラ-オレブロ地域(1994-1996) またはストックホルム地域(1995-1996)に住み、病理組織学的に確定診断された脳腫瘍患者で現在生存している233人(20〜80歳の男女)を症例とし、それぞれの症例にマッチした2人の対照がスウェーデンの人口登録から選出された。その結果、合計209の症例(参加率90 %)と425の対照(同90 %)がアンケートに回答した;職業が医師であること(ばく露症例3に基づく)の脳腫瘍オッズ比OR)は6.00、95 %信頼区間(CI)は0.62-57.7であった;頭頸部領域の放射線療法のORは3.61(95 %CI、0.65-19.9);携帯電話の同側使用は、OR = 2.42; 95 %CI、0.97-6.05)、など多数のリスク推定値を報告している。しかし、そのリスク推定値の多くは、信頼区間が1を跨ぎ、かつ非常に幅広い。また時間関係の不明確な因子など、議論の余地があると思われる。

研究の目的(著者による)

本研究では、脳腫瘍リスク携帯電話使用、電離放射線被ばく及び化学物質ばく露についてのスウェーデンの症例対照研究publication 1015 参照)のデータベースについての更なる分析を実施した。

詳細情報

更に、同じ症例対照研究のデータベース(publication 1015) in publication 9009)について追加的な、同様の分析を行った。

影響評価項目/リスク推定のタイプ

リスク推定のタイプ: (オッズ比(OR))

ばく露

ばく露評価

ばく露集団

グループ 説明
集団 1 腫瘍部位の脳半球、同側での携帯電話使用
集団 2 腫瘍部位の脳半球、反対側での使用
集団 3 腫瘍部位の脳半球、同側及び反対側での使用
集団 4 腫瘍部位、前頭、前頭頭頂、頭頂、または頭頂後頭、同側使用
集団 5 腫瘍部位、前頭、前頭頭頂、頭頂、または頭頂後頭、反対側使用
集団 6 腫瘍部位、前頭、前頭頭頂、頭頂、または頭頂後頭、同側及び反対側使用
集団 7 腫瘍部位、側頭、後頭または側頭頭頂、同側使用
集団 8 腫瘍部位、側頭、後頭または側頭頭頂、反対側使用
集団 9 腫瘍部位、側頭、後頭または側頭頭頂、同側及び反対側使用

調査対象集団

症例集団

対照集団

調査規模

症例 対照
適格者 270 -
連絡担当者 233 466
参加者 217 439
評価可能 209 425
その他:

198人の患者について解剖学的な腫瘍部位を評価

統計学的分析方法:

結論(著者による)

EMF-Portalでは電磁界へのばく露に関する結果のみを示す。
超低周波電磁界に潜在的にばく露される職業(例:電気技師、エレクトロニクス工事、保線技師、または通信工事)と脳腫瘍リスクとの関連は認められなかった。画像表示端末の使用はリスクを高めなかった。マイクロ波ばく露量が最も高い解剖学的部位に、携帯電話使用と同側での脳腫瘍リスク上昇が認められた。

研究の限界(著者による)

携帯電話ばく露についての結果は少ない数(症例13人)に基づいており、注意して解釈すべきである。

研究助成

関連論文